光能够刻写芯片是因为光具有很高的分辨能力和能量集中性。当光束照射到芯片上时，光的波长非常短，通常使用紫外光或激光，使得光的分辨率非常高。通过透镜、光阑等光学元件的调节，可以将光束的直径和焦点控制在非常小的范围内，从而在芯片表面进行非常精细的刻写。光刻技术通常使用一种被称为"光刻胶"的物质，将光束照射到覆盖在芯片表面的光刻胶上。光刻胶在光子的作用下发生化学反应，形成图案。这个图案可以作为模板用于后续的芯片制造工艺，例如沉积、腐蚀、离子注入等。光的能量集中性使得光刻过程能够非常精确地控制反应位置和形状，实现纳米级别的芯片制造。总而言之，光能够刻写芯片主要是因为光具有高分辨率和高能量集中性，而这些特性使得光刻技术可以实现非常精细和准确的芯片制造。